ウェハーの硬化処理における熱の無駄遣いを止めましょう。
標準的な赤外線ランプには、問題点があります。それは、熱があらゆる方向に放出されてしまうということです。半導体の硬化処理を行う際、これは単なるエネルギーの無駄に過ぎません。反射板がない場合、その熱の大部分がウェハーではなく、装置の壁に当たってしまいます。これは大変厄介です。装置の内部が非常に高温になり、作業員が火傷したり、正確に動かすべき部品が変形してしまったりする可能性があります。
熱を本来あるべき場所に送る
この問題を解決するために、精密な反射板を使って赤外線を集中させます。これは、単なる電球ではなく、懐中電灯のようなものです。後方からのエネルギーを再び対象物に向けて反射させることで、ウェハーの表面により多くの熱が届きます。そうすることで、装置の他の部分がオーブンのように高温になることはありません。結果として、装置の壁は涼しく保たれ、エネルギーも効率的に利用されます。
適切な材料の選択
使用するランプの波長に応じて、高純度のアルミニウムや金メッキされたクォーツが適しています。長波長の赤外線には金が最適ですが、コストが高くなります。短波長の場合は、アルミニウムが適しています。信頼性が高く、十分な効果が得られます。
しかし、注意すべき点があります。それは焦点の位置です。ランプとウェハーの間の距離を正しく調整する必要があります。距離が近すぎると、局所的に過度に加熱されてしまいます。逆に、距離が遠すぎると、光が拡散してしまい、方向性のあるエネルギーが失われてしまいます。
工場に与える影響
最良の点は、低いワット数ででも目的の温度に到達できるということです。そのため、冷却ファンの負荷も大幅に軽減されます。ただし、注意が必要です。光を集中させるため、焦点部分の強度は非常に高くなります。温度制御器を正確に設定しないと、目標温度を超えてウェハーが壊れてしまう可能性があります。しかし、正しく設定すれば、装置の内部は涼しく保たれ、処理も正確に行われます。