トゥインド・チューブ型のゴールドコーティングランプの正しい使い方 ここでは、このトゥインド・チューブ型のゴールドコーティングランプについて説明しましょう。高強度の赤外線加熱が必要な場合、これらのランプが最適です。私たちは二重フィラメント構造のクォーツを使用し、その表面には鏡のように機能するゴールド...

ファブ内の二酸化炭素排出量を削減するために：なぜ私たちは赤外線ランプを採用しているのか 率直に言って、半導体製造においては熱管理が大きな課題です。極めて高い精度が求められますが、それを実現するためには多くのエネルギーが消費されます。長年にわたり、従来の対流式オーブンや抵抗加熱器を使ってきましたが、...

ウェーハ加工において、熱フラックスを正しく制御することは非常に重要です。工場でエネルギーを無駄にするのは、単なるコストの問題だけではありません。それは明らかな失敗です。工場内のランプのスイッチを入れるとき、出力されるすべてのワット数がウェーハの表面に届く必要があります。エネルギーが部屋中に散らばっ...

ウェハーの硬化処理における熱の無駄遣いを止めましょう。 標準的な赤外線ランプには、問題点があります。それは、熱があらゆる方向に放出されてしまうということです。半導体の硬化処理を行う際、これは単なるエネルギーの無駄に過ぎません。反射板がない場合、その熱の大部分がウェハーではなく、装置の壁に当たってし...

空気を加熱するのをやめよう：なぜオゾンフリーの赤外線が最適なのか 半導体の精密加工に携わったことがある人なら、ホットエアを使った加熱方式の非効率さを知っているでしょう。時間がかかりすぎます。ごく小さなウェーハを所定の温度にするだけで、部屋全体を温めなければならないのです。まるで大きな鍋の水が沸騰す...

ウェーハの加熱を適切に行うために 半導体製造の現場では、「清潔さ」は単なる好みに過ぎないわけではなく、非常に重要な要素です。そのため、私たちはUHP（超高純度）ヒーターランプを使用しています。 実際、シリコンウェーハを加熱するときは、その表面に光子がしっかりと当たることが求められます。チャンバーの...

なぜ半導体の乾燥には赤外線がホットエアより優れているのか もし依然として洗浄工程でホットエアを使用しているのであれば、それは時間との戦いに負けていることになります。 対流の仕組みを考えてみてください。ウェーハが温度変化に気づく前に、まず空気やチャンバーの壁を加熱しなければなりません。これは非常に遅...

クラス100のクリーンルームを常に清潔な状態に保つために クラス100の環境で作業する際、わかっているはずです。わずかなほこりや化学物質の残留物が基板に付着するだけで、そのロット全体が台無しになってしまいます。 問題は、ほとんどの加熱素子がかなり汚れやすいということです。加熱されると粒子が飛び散っ...

無鉛半導体の硬化処理を正しく行うためには、反射器が重要です。 業界では、鉛を使わない、環境に優しい基準が採用されています。そのため、IR硬化装置が主流となっています。この装置は、有害な溶剤を使用しなくて済み、古い対流式オーブンに比べて電力消費も大幅に少ないのです。 しかし、注意点があります。ランプ...

技術的詳細：パワーと精度 ラピッドサーマルプロセッシングにおいて、適切な熱処理システムを選定する際には、単に強力な加熱能力だけでなく、再現性の高い加熱性能も必要です。当社の優れたRTPランプは、有名な高級機器に代わる高性能な代替品として設計されています。 このランプは400Vの電圧で動作し、迅速な...

リソグラフィー工程においては、90℃での弱い加熱処理を行う際、温度が0.3℃でも変動してしまうと、全体の線幅にばらつきが生じてしまいます。温度の均一性は単なる好みではなく、必須の条件なのです。 技術的に重要な点 私たちが開発したこのセラミック製のランプホルダーは、フォトレジスト処理用の加熱装置とし...

フォトレジストの焼成処理においては、熱処理の精度が非常に重要です。±0.1℃の精度を維持する必要があります。そうでなければ、ドリフトによってウェーハ上の情報が失われ、廃棄処分となってしまいます。ランプの性能が低下すると、再作業や廃棄処分、計画外の停止時間などのコストが発生します。そのため、私たちは...

製造ラインでは、ウェーハ表面に付着した水分が、露光後にウェーハの寸法を変化させてしまう可能性があります。湿度が制御されていないと、ソフトベイクやハードベイクの過程でフォトレジストの接着不良が発生しやすくなります。ウェーハ上の水分を除去するためのヒーターランプは、迅速かつ確実に熱を供給し、リソグラフ...

OLEDリソグラフィラインにおけるドリフトの許容はない フォトレジストの焼成中に半度の摂氏の変化があるだけで、重要な寸法がずれ、マスクレベル全体が廃棄される可能性があります。熱的なバジェットを実際のプロセスパラメータとして扱う乾燥ランプが必要です。 内部で重要な要素 私たちは、クォーツエンベロープ...

リソグラフィ工程では状況をよく理解しているはずだ。ウェハードライヤーのランプがたった0.2℃ずれても、重要寸法のバイアスが規格外に押し出される可能性がある。ソフトベイクとハードベイクは単なる熱処理ではなく、溶剤除去、ポリマーの架橋、線幅制御を設定する工程だ。ランプが不安定になると、その時点で歩留ま...