ファブヒーター用セラミックランプホルダー

リソグラフィー工程においては、90℃での弱い加熱処理を行う際、温度が0.3℃でも変動してしまうと、全体の線幅にばらつきが生じてしまいます。温度の均一性は単なる好みではなく、必須の条件なのです。 技術的に重要な点 私たちが開発したこのセラミック製のランプホルダーは、フォトレジスト処理用の加熱装置とし...