팹 히터용 세라믹 램프 홀더

리소그래피 공정에서는 90°C로 부드럽게 가열하는 과정에서 온도가 0.3°C만 변동해도 전체 웨이퍼의 선폭에 영향을 줄 수 있습니다. 온도의 균일성은 단순한 선호 사항이 아니라 반드시 충족되어야 하는 필수 조건입니다. 기술적으로 중요한 점들 우리는 포토레지스트 처리...