标签为“支持”的页面如下 低温系统辅助加热器 在芯片制造过程中,当晶圆干燥或光刻胶处理时,如果温度出现波动,就会影响产品的良率。一旦达到设定温度,支撑加热器就必须立即固定晶圆表面,防止出现任何偏差或不平整现象。否则,就会出现线条宽度不一致或表面有杂质的情况。 关键在于控制精度 我们的低温系统中的支撑加热器能够将活性区域的温度控制在±0.1°C... Read more...
低温系统辅助加热器 在芯片制造过程中,当晶圆干燥或光刻胶处理时,如果温度出现波动,就会影响产品的良率。一旦达到设定温度,支撑加热器就必须立即固定晶圆表面,防止出现任何偏差或不平整现象。否则,就会出现线条宽度不一致或表面有杂质的情况。 关键在于控制精度 我们的低温系统中的支撑加热器能够将活性区域的温度控制在±0.1°C... Read more...