别再让真空室变成“烤箱”了
凡是从事半导体生产的人都知道这个麻烦：虽然需要将晶圆加热，但又不希望把真空室变成一个烤箱。
普通的红外灯其实只是强度更高的灯泡而已——它们会将热量向各个方向散发。在真空中，这些热量无处可去，只能撞击设备的内壁。很快，设备的结构就会过热，操作人员也会因为被烫伤而受伤。
这确实是个问题。不过，有更好的解决方法。
将热量集中起来，而不是四处散播。
我们使用定向红外线技术来解决这个问题。与其让热量四处扩散，不如用专门的反射器和发射器将热量精确地传递到需要的地方——也就是晶圆上。
这样一来，晶圆可以获得所需的足够热量，而周围的设备则不会过热。这样，操作人员就可以直接触摸机器，而不用担心被烫伤。
真空环境中的散热难题确实存在。
当房间内的空气被抽出后，物理特性就会发生变化。此时，对流散热就不再起作用了，因此灯具只能依靠辐射和反射器来散发热量。
如果直接使用高功率的卤素灯，而没有合适的散热装置或反射器，那么这种灯很快就会烧毁。我们会使用石英外壳来承受热量，但同时也要注意电源的稳定性。因为在启动时，这类灯的电流可能会突然上升。
更快的处理速度，更低的压力。
减少“废热”不仅关乎安全性，还关系到处理速度。当真空室的内壁不再吸收热量时，它们就不再充当巨大的散热器了。这样一来，当需要降低温度时，就不必等待那块金属冷却下来。这样一来，处理时间就会缩短，生产效率也会提高。
最后，关于安装方面需要注意的是：必须使用高温导线，并确保反射器的对准精度。如果反射器的角度偏差哪怕只有2度，热量就会偏离晶圆，重新照射到墙上。那样一来，一切又得从头开始。