Como usar corretamente as lâmpadas com revestimento dourado de dois tubos Vamos falar sobre essas lâmpadas com revestimento dourado de dois tubos. Se...

Reduzindo as emissões de carbono na fabricação de semicondutores: Por que estamos migrando para lâmpadas infravermelhas Sejamos honestos: a...

Como obter o fluxo de calor adequado no processo de processamento de wafers Em uma fábrica, desperdiçar energia não é apenas um problema financeiro –...

Pare os cacos: mantenha suas pastilhas limpas quando as lâmpadas queimam Em uma fábrica de semicondutores de alta produção, o rompimento de uma...

Pare de desperdiçar calor em seu equipamento de cura de wafers O problema com as lâmpadas infravermelhas convencionais é que elas emitem calor em...

Pare de aquecer o ar: por que as lâmpadas infravermelhas sem ozônio são a solução ideal Se você já trabalhou com processamento avançado de...

Como obter a temperatura correta para o wafer Quando se trabalha em um ambiente de semicondutores, “limpeza” não é apenas uma preferência – é...

Por que o IR é melhor que o ar quente para a secagem de semicondutores Se você ainda está usando circulação de ar quente em suas linhas de enxágue,...

Mantendo sua sala limpa de classe 100 realmente limpa Quando se trabalha em um ambiente de classe 100, é preciso ter cuidado redobrado. Uma pequena...

Como fazer a cura de semicondutores sem chumbo da maneira correta: tudo depende do refletor A indústria está se afastando do uso do chumbo e buscando...

Análise Técnica: Poder e Precisão Ao escolher uma solução térmica para processos rápidos de aquecimento, é necessário ter uma lâmpada que ofereça um...

Na etapa de litografia, um aquecimento suave a 90°C, mesmo que haja uma variação de 0,3°C, pode causar variações na largura das linhas em todo o lote...

Na linha de produção, o processo de secagem do fotoreativo é semelhante a uma “corrida térmica”. É preciso manter uma precisão de ±0,1°C, pois...

Na área de produção, a umidade presente na superfície da wafer pode causar alterações nas suas dimensões críticas após a exposição. Umidade não...

On the OLED lithography line, você não pode permitir desvios. Meio grau Celsius durante a cura do fotoresiste já é suficiente para deslocar dimensões...

Na linha de 300mm, uma deriva de 0,3°C durante a cura do fotoresiste é a diferença entre uma produção controlada e um lote totalmente sucateado. Essa...

No piso de litografia, você sabe como é: uma lâmpada do secador de wafer com deriva de apenas 0,2°C pode deslocar o viés da dimensão crítica para...