Auf der 300mm-Linie ist eine Drift von 0,3 °C während des Photoresist-Bake der Unterschied zwischen einem kontrollierten Lauf und einer vollständigen...

Auf dem Lithographie-Floor wissen Sie, wie es läuft: Ein Wafer-Trockner-Lampe, die auch nur um 0,2°C driftet, kann den kritischen Dimensionsversatz...