Di bilik pengeluaran, kelembapan yang terdapat pada permukaan wafer boleh menyebabkan perubahan pada dimensi penting wafer setelah ia terdedah kepada cahaya. Kelembapan yang tidak dikawal pula akan menyebabkan masalah pada proses pelapisan fotoresist, terutamanya ketika cuba memastikan suhu yang sesuai semasa proses pembakaran. Lampu pemanas yang digunakan untuk menghilangkan kelembapan pada wafer dapat menyelesaikan masalah ini dengan cepat dan efektif, sekaligus memastikan suhu wafer tetap stabil sepanjang proses litografi.
Apa yang penting di sebaliknya
Lampu ini dibina menggunakan elemen inframerah gelombang pendek yang terletak dalam selubung kuarsa. Dengan cara ini, tenaga panas dapat disalurkan terus ke wafer tanpa merosakkan peralatan di sekelilingnya. Kestabilan suhu pada wafer mencapai ±0.1°C di kawasan aktifnya, dan corak suhu yang dihasilkan juga sangat konsisten, sehingga memastikan proses pembakaran berjalan lancar.
Tidak ada partikel yang dihasilkan kerana sistem lampu ini dirancang untuk beroperasi dalam lingkungan yang bersih, dan ia sesuai digunakan di persekitaran kelas 1–100. Lampu ini boleh beroperasi 24/7 tanpa masalah, dan outputnya tetap stabil walaupun setelah ribuan jam beroperasi. Ini bermakna kurangnya masalah yang tidak dijangka dan masa henti yang tidak perlu.
Mengapa ia sesuai untuk pengeluaran sebenar
Wafer diletakkan di bawah lampu ini, lalu kelembapan pada permukaannya dapat dihilangkan dengan cepat. Selepas itu, proses pembakaran dapat dilakukan dengan kawalan yang lebih baik terhadap ketebalan dan corak fotoresist. Hasilnya, ketepatan pelapisan fotoresist meningkat, dan masalah yang berkaitan dengan cacat pelapisan serta masalah gelombang dapat dikurangkan.
Oleh kerana lampu ini hanya memanaskan bahagian yang dituju sahaja, penggunaan tenaga menjadi lebih efisien. Kawalan suhu yang konsisten juga membolehkan proses pengeluaran berjalan lebih cepat tanpa mengorbankan kualiti produk.
Apa yang perlu dipastikan
Lampu ini boleh digunakan bersama-sama dengan alat-alat pengeluaran yang sedia ada, tetapi masih perlu disesuaikan jarak fokus dan intensiti cahaya agar sesuai dengan saiz wafer dan lapisan fotoresistnya. Lakukan ujian awal untuk menentukan corak suhu yang sesuai untuk proses pembakaran. Setelah itu, proses pengeluaran dapat dilakukan tanpa campur tangan manusia yang banyak.