MEMSウェハを面倒なく乾燥させる方法
MEMSセンサーを製造する際、最も避けたいのが、わずかな水分や溶剤の汚れがウェハを台無しにしてしまうことです。しかし、単に熱を当てるだけでは材料に負担がかかり、残留物が残ってしまいます。
そのため、私たちは短波赤外線ヒーターを利用します。赤外線は、ウェハ周辺の空気を温めるのに時間を費やす代わりに、エネルギーを直接基板に送り込みます。これにより、化学触媒や余計な手間が不要になります。
実際の動作原理
まるで的を射た攻撃のようです。ヒーターから放出される光子を水分子が吸収し、液体が瞬時に蒸発します。
最良な点は、空気の流れがないことです。クリーンルームで働いたことがある人ならわかると思いますが、空気の流れはほぼ塵や微粒子を運ぶ手段に過ぎません。赤外線を使えば、「乾燥処理」がスムーズに行われます。危険なフラックスや鉛を含むはんだを使う必要もありません。
電力の節約（そして精神的な負担の軽減）
ここが本当に素晴らしい点です。通常、大きな加熱チャンバーでは予熱に1時間もかかりますが、赤外線ランプを使えば数秒で目的の温度に到達します。電気代も大幅に削減されます。また、化学的な乾燥剤による有害なVOCの発生もありません。これは、よりクリーンな作業方法です。
デメリット
もちろん、魔法ではありません。いくつかの制約があります。赤外線は直線的にしか作用しません。ウェハの形状が複雑だったり、凹みがある場合、熱が届かない部分ができてしまいます。そのため、ランプの配置をうまく考える必要があります。もし、パワーを上げて冷たい部分を解消しようとすると、ウェハの端が焼けてしまう可能性があります。適切な配置を見つけるには少し計画が必要です。
私たちは、従来の高功率の装置が置かれていた場所にそのまま設置できるようにこのシステムを設計しました。ただし、ランプが初めて作動した時の電力の急増に対応できる電源が必要です。一度動き出せば、問題ありません。