On the OLED lithography line, আপনি ড্রিফট সহ্য করতে পারবেন না। ফটোরে সিস্ট বেকের সময় আধা ডিগ্রি সেলসিয়াসের তাপমাত্রা পার্থক্যই ক্রিটিক্যাল ডাইমেনশনের পরিবর্তন ঘটাতে পারে এবং একটি সম্পূর্ণ মাস্ক স্তর নষ্ট করতে পারে। আপনাকে এমন একটি ড্রাইয়িং ল্যাম্পের প্রয়োজন যা তাপমাত্রার বাজেটকে প্রসেস প্যারামিটার হিসেবে বিবেচনা করে, ফেলে দেওয়ার মতো কিছু নয়।
What matters under the hood
আমরা OLED ড্রাইয়িং ল্যাম্পটি তৈরি করেছি কোয়ার্টজ এনভেলপে শর্ট-ওয়েভ হ্যালোজেন এমিটার ব্যবহার করে। এটি দ্রুত র্যাম্প করা NIR বিকিরণ করে যা ফটোরে সিস্টে পৌঁছায় কিন্তু স্ট্যাককে পোড়ায় না। ওয়েফার-লেভেল ইউনিফর্মিটি বেক জোনজুড়ে ±0.1°C এর মধ্যে থাকে, ফলে সফট বেক ও হার্ড বেক প্রোফাইল রেসিপিকে সঠিকভাবে অনুসরণ করে।
এটি ক্লিনরুম-কম্প্যাটিবল Class 1–100 পর্যন্ত, কারণ এতে পার্টিকেল কন্ট্রোলড অ্যাসেম্বলি এবং আউটগ্যাস না করা ম্যাটেরিয়াল ব্যবহার করা হয়েছে। ফলে ল্যাম্প থেকে আসা পার্টিকেল প্রসেস স্পেসিফিকেশনের নিচে থাকে। এছাড়াও, সিস্টেম প্রতিদিন নির্দিষ্ট সেটপয়েন্ট পুনরাবৃত্তি করে, তাই আপনারetch এবং development বাজেট ড্রিফট করে না।
Why this plays in OLED
OLED স্ট্যাকগুলি পাতলা এবং তাপীয়ভাবে সংবেদনশীল। ফটোরে সিস্ট বেকের সময় ওভারশ্যুট হলে অবশিষ্টাংশ, আটচমেন্ট সমস্যা এবং উৎপাদন ক্ষতির কারণ হয়। এই ল্যাম্প দ্রুত ও কঠোর নিয়ন্ত্রণে তাপ সরবরাহ করে, যা তাপ সংবেদনশীল সময়কাল কমিয়ে দেয়। এর ফলে ক্রিটিক্যাল ডাইমেনশন নিয়ন্ত্রণ সঠিক হয় এবং বেমানান ত্রুটি কমে যায়।
আপনি কম শক্তি ব্যবহার পাবেন, কারণ ল্যাম্প দ্রুত সেটপয়েন্টে পৌঁছায় এবং সামান্য দোলে নিয়ন্ত্রণ ধরে রাখে। এটি ২৪/৭ চলার জন্য ডিজাইন করা হয়েছে, যার ফলে অপ্রত্যাশিত বন্ধ হওয়া কমে এবং বেক এক্সকুশন ঘটলে পুনরায় কাজের পরিমাণ কমে।
What you need to plan for
ল্যাম্পের জন্য একটি ডেডিকেটেড পাওয়ার বাস এবং EMI-সচেতন রাউটিং দরকার যাতে Lithography টুলের সেন্সরগুলোতে প্রভাব না ফেলে। আপনার নির্দিষ্ট চ্যাক ও ওয়েফার স্ট্যাক অনুসারে হট স্পট ম্যাপ করার জন্য একটি সংক্ষিপ্ত কমিশনিং রান পরিকল্পনা করুন, তারপর কন্ট্রোলারে প্রোফাইল লক করুন।
একবার সঠিকভাবে স্থাপন হলে, সিস্টেমটি শুধুমাত্র তাপ উৎস নয় বরং একটি পুনরাবৃত্ত তাপীয় মডিউল হিসাবে কাজ করে। এটিই মূল উদ্দেশ্য।