Сушильна лампа для виробництва OLED

Tue, 09 Jun 2026 01:29:05 +0800

On the OLED lithography line, you can’t afford drift. Half a degree Celsius during the photoresist bake is enough to shift critical dimensions and scrap an entire mask level. You need a drying lamp that treats the thermal budget like a real process parameter, not an afterthought.

What matters under the hood
Ми побудували OLED сушильну лампу на основі короткохвильових галогенових випромінювачів у кварцових оболонках. Вона генерує швидко наростаюче ближнє інфрачервоне випромінювання, яке проникає у фоторезист без перегріву шару. Однорідність за wafer-рівнем залишається в межах ±0.1°C по зоні випікання, тому профілі soft bake і hard bake дійсно відповідають рецептурі.
Лампа сумісна з чистими приміщеннями класу 1–100 завдяки контролю часток під час збірки та матеріалам, що не виділяють газів. Це забезпечує внесок часток від самої лампи нижче за технологічну специфікацію. Система щодня точно відтворює встановлені параметри, що виключає відхилення витрат на травлення та проявлення.

OLED on Warm IR Spot Heating

Сушильна лампа для виробництва OLED

On the OLED lithography line, you can’t afford drift. Half a degree Celsius during the photoresist bake is enough to shift critical dimensions and scrap an entire mask level. You need a drying lamp that treats the thermal budget like a real process parameter, not an afterthought.