Lâmpada de aquecimento para remoção de umidade em wafers

Wed, 17 Jun 2026 12:03:01 +0800

Na área de produção, a umidade presente na superfície da wafer pode causar alterações nas suas dimensões críticas após a exposição. Umidade não controlada? Isso leva a problemas de adesão do fotoresistente, justamente no momento em que se tenta manter o perfil térmico adequado durante os processos de cozimento. A lâmpada de remoção de umidade da wafer resolve esse problema: ela fornece calor rápido e eficaz, permitindo que a wafer fique estável antes da litografia e mantendo o perfil térmico consistente ao longo de todo o ciclo de cozimento.

Umidade on Warm IR Spot Heating

Lâmpada de aquecimento para remoção de umidade em wafers