Aquecedor de suporte do sistema criogênico

Sun, 21 Jun 2026 03:00:12 +0800

Na área de produção, percebe-se quando as condições térmicas mudam durante a secagem dos wafers e no processo de tratamento do fotoresiste – isso afeta negativamente a qualidade dos produtos. Assim que o sistema criogênico atinge o ponto de referência, o aquecedor de suporte precisa manter a superfície do wafer estável. Qualquer desvio ou irregularidade pode causar variações na largura das linhas e problemas relacionados à qualidade do produto.

O que é importante por trás disso tudo
O nosso aquecedor de suporte do sistema criogênico mantém a uniformidade da temperatura na área ativa em torno de ±0,1°C, com repetibilidade do ponto de referência de ±0,5°C. O elemento otimizado para uso em espectro infravermelho garante uma transferência de energia eficiente e rápida. Ele é compatível com salas limpas das classes 1–100 e foi projetado para não gerar partículas. Funciona continuamente com potência nominal, sem pontos quentes, e sua saída de energia permanece estável por milhares de horas. As interfaces são padronizadas para facilitar a integração com os dispositivos criogênicos e módulos de processamento, sendo projetados para funcionar 24/7.

Sistema on Warm IR Spot Heating

Aquecedor de suporte do sistema criogênico