Lampu pemanas untuk menghilangkan kelembapan pada wafer

Wed, 17 Jun 2026 12:03:02 +0800

Di bilik pengeluaran, kelembapan yang terdapat pada permukaan wafer boleh menyebabkan perubahan pada dimensi penting wafer setelah ia terdedah kepada cahaya. Kelembapan yang tidak dikawal pula akan menyebabkan masalah pada proses pelapisan fotoresist, terutamanya ketika cuba memastikan suhu yang sesuai semasa proses pembakaran. Lampu pemanas yang digunakan untuk menghilangkan kelembapan pada wafer dapat menyelesaikan masalah ini dengan cepat dan efektif, sekaligus memastikan suhu wafer tetap stabil sepanjang proses litografi.

Apa yang penting di sebaliknya
Lampu ini dibina menggunakan elemen inframerah gelombang pendek yang terletak dalam selubung kuarsa. Dengan cara ini, tenaga panas dapat disalurkan terus ke wafer tanpa merosakkan peralatan di sekelilingnya. Kestabilan suhu pada wafer mencapai ±0.1°C di kawasan aktifnya, dan corak suhu yang dihasilkan juga sangat konsisten, sehingga memastikan proses pembakaran berjalan lancar.

Pemindahan on Warm IR Spot Heating

Lampu pemanas untuk menghilangkan kelembapan pada wafer