Pembuatan on Warm IR Spot Heating

Pemanas untuk pembuatan pengesan hidrogen

Wed, 29 Jul 2026 05:13:22 +0800

Melindungi Bahan-Bahan daripada Kesan Panas dan Bahan Kimia

Membuat sensor hidrogen merupakan proses yang rumit. Anda perlu mengawal suhu dengan teliti, namun proses ini sering dilakukan berdekatan dengan bahan-bahan pembersih yang mudah terbakar. Dalam keadaan seperti ini, lampu inframerah biasa bukan sahaja tidak berguna, malah boleh menjadi punca masalah.

Itulah sebabnya kami mereka bentuk pemanas inframerah kami dengan penekanan khusus pada aspek pengasingan haba. Kami sebenarnya mencipta “kubu” untuk melindungi komponen-komponen tersebut daripada percikan api dan wap-wap berbahaya.

Pemanas untuk pembuatan nanotube karbon

Tue, 21 Jul 2026 02:30:19 +0800

Menghentikan Masalah Kontaminasi Wafer dalam Pemanas CNT
Jika anda pernah bekerja dalam bidang pembuatan CNT, anda pasti tahu betapa sukar situasinya. Anda perlu menghasilkan produk dalam kuantiti yang banyak, tekanannya sangat tinggi, dan tiba-tiba berlaku masalah – salah satu lampu inframerah pecah.

Ia bukan sekadar masalah lampu yang rosak; ia merupakan bencana sebenar. Tiba-tiba, wafer-wafer tersebut diselubungi serpihan kuarza dan gas halogen. Satu kegagalan kecil boleh menyebabkan reaksi berantai yang merosakkan keseluruhan batch yang dihasilkan. Ini merupakan masalah yang tidak ingin dialami oleh sesiapa pun.

Lampu pengering pengilangan OLED

Tue, 09 Jun 2026 01:29:05 +0800

Pada lini litografi OLED, anda tidak boleh membiarkan berlakunya pergeseran. Setengah darjah Celsius semasa proses pembakaran photoresist sudah cukup untuk mengubah dimensi kritikal dan menyebabkan seluruh tahap topeng terbuang. Anda memerlukan lampu pengering yang mengendalikan bajet terma seperti parameter proses sebenar, bukan sekadar selepas fikiran.

Apa yang penting di dalam sistem
Kami membina lampu pengering OLED menggunakan pemancar halogen gelombang pendek dalam selongsong kuarza. Ia menghasilkan NIR dengan kenaikan cepat yang menembusi photoresist tanpa membakar lapisan. Keseragaman tahap wafer kekal dalam ±0.1°C di seluruh zon pembakaran, jadi profil soft bake dan hard bake benar-benar mengikut resipi.
Sistem ini sesuai untuk bilik bersih sehingga Kelas 1–100, berkat pemasangan terkawal partikel dan bahan yang tidak melepaskan gas. Ini memastikan sumbangan partikel dari lampu itu sendiri berada di bawah spesifikasi proses. Selain itu, sistem mengulangi setpoint setiap hari tanpa henti, jadi bajet etsa dan pembangunan tidak mengalami pergeseran.