Di permukaan wafer, perubahan suhu sebanyak setengah darjah semasa proses pembakaran bahan photoresist bukanlah “kesilapan kecil”. Ia boleh menyebabkan penurunan kualiti produk yang dihasilkan. Kita perlu memantau perubahan pada profil bahan photoresist, dimensi pentingnya, serta kelajuan proses pengeluaran. Semua ini penting agar proses pengeluaran dapat berjalan dengan stabil. Kami mencipta pemanas untuk digunakan dalam proses litografi dan langkah-langkah termal yang diperlukan—kerana dalam proses ini, suhu bukan sekadar faktor latar belakang, tetapi merupakan unsur penting dalam proses pengeluaran.
Apa yang penting dari segi teknikal:
Kita memerlukan tahap keseragaman suhu sekitar ±0.1°C di seluruh kawasan aktif wafer, agar setiap wafer mendapat keadaan termal yang sama. Keserasian dengan bilik bersih juga sangat penting—bahan-bahan yang digunakan, sistem pengedap, dan permukaan wafer harus dipilih dengan teliti agar sesuai untuk persekitaran kelas 1–100, dengan kadar pelepasan gas yang rendah dan tiada zarah yang terhasil. Dengan cara ini, proses pembakaran akan berjalan dengan lebih efektif, dan prestasi bahan photoresist akan tetap konsisten. Selain itu, kawalan suhu juga dapat dilakukan dengan lebih baik.
Mengapa pendekatan ini efektif dalam kilang pengeluaran berskala besar:
Ketepatan kawalan suhu dapat mengurangkan variasi suhu, sekaligus mengurangkan keperluan untuk melakukan pembaikan semula. Keseragaman suhu yang tinggi juga dapat memendekkan masa yang diperlukan untuk proses pensijilan, serta memastikan kawalan yang lebih baik terhadap parameter-proses pengeluaran. Ini seterusnya akan meningkatkan kualiti produk yang dihasilkan. Kebolehpercayaan peralatan ini juga tinggi, sehingga waktu henti yang tidak dirancang dapat dikurangkan, dan kos yang berkaitan dengan masalah termal juga dapat dikurangkan. Akhirnya, kita akan mendapat hasil pengeluaran yang stabil, dengan sedikit penyesuaian parameter yang diperlukan, serta penggunaan tenaga yang lebih efisien.
Butiran praktikal yang perlu dipertimbangkan:
Pemanas-pemanas ini berukuran kompak, jadi ia perlu disesuaikan dengan geometri bilik pengeluaran dan cara penyusunan peralatan tersebut. Jarak antara pemanas dan permukaan wafer mempengaruhi keseragaman suhu. Proses pemanasan akan berjalan dengan cepat, dan kawalan suhu juga akan tetap stabil. Namun, perlu ada penyesuaian pada tetapan PID dan kedudukan sensor semasa proses integrasi. Jika dilakukan dengan betul, peralatan ini akan memastikan kestabilan proses pengeluaran di permukaan wafer.