Lampa riscaldante UHP (Ultra High Purity)

Fri, 17 Jul 2026 02:05:40 +0800

Come ottenere la giusta temperatura per il wafer
Quando si lavora in un ambiente di semiconduttori, “pulizia” non è soltanto una preferenza: è fondamentale. Ecco perché utilizziamo lampade riscaldanti di tipo UHP (Ultra High Purity).
Quando si riscalda un wafer di silicio, è importante che ogni singolo fotone raggiunga effettivamente quella superficie. Sprecare energia per riscaldare le pareti della camera di lavoro significa semplicemente sprecare denaro ed energia inutilmente.

Perché scegliamo l’oro
Alcuni utilizzano riflettori in alluminio, ma questi assorbono troppa energia. Noi invece utilizziamo riflettori rivestiti d’oro.
Non si tratta di rendere l’attrezzatura più bella, ma piuttosto di sfruttare le proprietà fisiche della luce infrarossa. L’oro è eccezionale nel rimandare quell’energia proprio dove serve: sul wafer. In questo modo, l’energia termica rimane concentrata sul wafer, senza che vada dispersa nell’intera struttura dell’apparecchiatura. Inoltre, non è necessario aumentare l’intensità del calore per ottenere risultati migliori.

(Ultradigitale on Warm IR Spot Heating

Lampa riscaldante UHP (Ultra High Purity)