Lampada riscaldante per rimozione dell umidità dai wafer

Wed, 17 Jun 2026 12:03:01 +0800

Nel reparto di produzione, l’umidità presente sulla superficie del wafer può causare variazioni nelle sue dimensioni critiche dopo l’esposizione alla luce. Un’umidità non controllata porta inevitabilmente a problemi di adesione del fotoresista, proprio nel momento in cui si cerca di mantenere un profilo di essiccazione preciso. La lampada per la rimozione dell’umidità dal wafer risolve questo problema: emette calore rapido e preciso, permettendo così di stabilizzare il wafer prima della litografia e di mantenere una temperatura costante durante tutto il ciclo di essiccazione.

Rimozione on Warm IR Spot Heating

Lampada riscaldante per rimozione dell umidità dai wafer