Riscaldatore di supporto per sistema criogenico

Sun, 21 Jun 2026 03:00:12 +0800

Nella sala di produzione, si percepisce chiaramente l’impatto delle fluttuazioni termiche durante il processo di essiccazione dei wafer e la lavorazione del fotoresiste: la resa produttiva ne risente negativamente. Non appena lo strato criogenico raggiunge il punto di regolazione, il riscaldatore di supporto deve assicurarsi che la superficie del wafer rimanga stabile. Qualsiasi deviazione o irregolarità può causare variazioni nella larghezza delle linee e problemi legati alla qualità della superficie del wafer.

Cosa è importante dal punto di vista tecnico
Il nostro sistema criogenico, grazie al riscaldatore di supporto, garantisce una uniformità della temperatura entro ±0,1°C nell’area di lavoro, con una precisione di regolazione di ±0,5°C. L’elemento ottimizzato per le onde infrarosse permette una trasferimento di energia rapido e preciso; inoltre, è adatto per essere utilizzato in ambienti puliti di classe 1–100. Il sistema è progettato per non generare alcuna particella. Funziona a potenza nominale in modo continuo, senza zone calde, e la sua prestazione rimane stabile per migliaia di ore. Le interfacce sono standardizzate per un’integrazione rapida nei sistemi criogenici e nei moduli di elaborazione, e sono progettate per funzionare 24/7.

Criogenico on Warm IR Spot Heating

Riscaldatore di supporto per sistema criogenico