Lampada a forno a carbonio di silicio (SiC)

Tue, 23 Jun 2026 13:43:23 +0800

Nella fase di essiccazione del fotoresistente, è fondamentale mantenere una temperatura precisa: bisogna cercare di mantenere una variazione di temperatura compresa tra ±0,1°C, poiché eventuali deviazioni possono compromettere la qualità dei wafer e trasformarli in rottami. Quando la lampada non funziona correttamente, ne paghiamo le conseguenze: bisogna rifare il lavoro, eliminare i wafer difettosi e affrontare tempi di inattività non previsti. Per questo abbiamo progettato una lampada per forni a carbonio di silicio in grado di funzionare continuamente, con una temperatura costante nel tempo.

Carburo on Warm IR Spot Heating

Lampada a forno a carbonio di silicio (SiC)