Dalam proses pembakaran fotoresist, yang terjadi sebenarnya adalah proses pemanasan yang cepat. Anda perlu mempertahankan suhu pada kisaran ±0,1°C, karena penyimpangan suhu akan merusak hasil proses dan mengubah wafer menjadi limbah. Jika lampu yang digunakan tidak berfungsi dengan baik, Anda akan menanggung akibatnya: harus melakukan proses perbaikan ulang, menggunakan bahan limbah, serta mengalami masa diam yang tidak terplanning. Oleh karena itu, kami menciptakan lampu furnace berbahan SiC yang dapat bekerja secara terus-menerus tanpa mengalami fluktuasi suhu yang signifikan.
Inti dari lampu ini merupakan emitor inframerah berfrekuensi rendah: silikon karbida yang ditempatkan dalam pelindung berbahan kuarsa, sehingga memberikan respons yang cepat dan stabil. Kami bertujuan untuk mencapai tingkat keseragaman suhu sebesar ±0,1°C di seluruh zona pemanasan, sedangkan tingkat repetibilitas antar batch produksi tetap berada dalam kisaran ±0,5°C. Daya keluaran lampu dapat disesuaikan sesuai kebutuhan, baik untuk proses pemanasan ringan maupun berat, dengan kontrol yang tepat agar suhu tetap stabil.
Lampu ini dirancang untuk digunakan di lingkungan cleanroom, cocok untuk kondisi kelas 1–100, tanpa menghasilkan partikel apa pun. Tidak ada emisi gas yang dapat merusak fotoresist. Kami telah melihat lampu ini beroperasi selama lebih dari 5.000 jam dengan penurunan daya keluaran kurang dari 5%. Lampu ini dirancang untuk beroperasi 24/7.
Di area litografi, lampu ini dapat menggantikan sistem halogen atau sistem berfrekuensi menengah yang digunakan sebelumnya—tanpa perlu mengubah resep proses produksi. Dengan menggunakan lampu ini, proses pemanasan akan berjalan lebih cepat, dengan fluktuasi suhu yang minim, dan penggunaan energi per wafer pun lebih rendah. Lampu ini dapat dipasang pada perlengkapan furnace standar, sesuai dengan standar peralatan semikonduktor internasional, dan memberikan profil termal yang konsisten sehingga dapat langsung digunakan.
Proses pemasangannya sangat sederhana: cukup lakukan penyesuaian posisi perlengkapan dan aliran pendingin. Jika reflektor tidak sesuai atau sistem pendingin tidak memadai, maka profil termal akan terganggu. Pastikan geometri ruang pemrosesan dan pasokan daya sudah sesuai sebelum menyalakan lampu. Setelah itu, lampu ini akan berfungsi sebagai sumber panas yang tepat, sesuai dengan kebutuhan yang diinginkan.