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		<title>Système on Warm IR Spot Heating</title>
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				<title>Chauffage de soutien du système cryogénique</title>
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				<pubDate>Sun, 21 Jun 2026 03:00:12 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-spot.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Chauffage de soutien du système cryogénique&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur le plan de fabrication, on ressent les effets négatifs lorsque les variations thermiques surviennent pendant le séchage des wafers ou le traitement du photorésistant : cela affecte directement le rendement de production. Dès que la température atteint la valeur cible, le chauffage de soutien doit maintenir la surface du wafer à une température constante. Toute déviation ou irrégularité entraîne des variations dans l’épaisseur des lignes dessinées sur le wafer, ainsi que des défauts de qualité.&lt;/p&gt;</description>
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