Fabrication on Warm IR Spot Heating

Chauffage pour la fabrication de capteur d hydrogène

Wed, 29 Jul 2026 05:13:14 +0800

Assurer la sécurité lorsque la chaleur rencontre des produits chimiques
La fabrication de capteurs à hydrogène est une tâche délicate. Il est nécessaire de contrôler précisément la température, mais cela se fait généralement à proximité d’agents de nettoyage qui pourraient facilement prendre feu. Dans de telles conditions, une simple lampe infrarouge n’est pas seulement un outil utile : c’est aussi une source de risque.

C’est pourquoi nous concevons nos chauffages infrarouges en mettant l’accent sur l’encapsulation. En somme, nous créons une sorte de « forteresse » autour de la source de chaleur, afin d’éviter que des étincelles ou des vapeurs volatiles ne puissent atteindre les éléments chauffés.

Chauffage pour la fabrication de nanotubes de carbone

Tue, 21 Jul 2026 02:30:19 +0800

Arrêter le cauchemar de la contamination des wafers dans les chauffages à CNT
Si vous avez déjà travaillé dans la fabrication de CNT, vous connaissez bien ce problème. On travaille à haute cadence, la pression est élevée… et soudain, une lampe infrarouge cesse de fonctionner. Ce n’est pas juste une ampoule qui casse : c’est un désastre. Soudain, vos wafers sont recouverts de morceaux de quartz et de gaz halogène. Une petite panne peut déclencher une réaction en chaîne qui détruit tout votre lot. C’est un vrai problème que personne ne veut rencontrer.

Lampe de séchage pour fabrication d OLED

Tue, 09 Jun 2026 01:29:05 +0800

Sur la ligne de lithographie OLED, la dérive n’est pas tolérable. Une variation de seulement un demi-degré Celsius lors du séchage du photoresist suffit à modifier les dimensions critiques et à recycler un niveau complet de masque. Il faut une lampe de séchage qui considère le budget thermique comme un paramètre de procédé réel, pas comme une réflexion après coup.

Ce qui compte en interne
Nous avons conçu la lampe de séchage OLED autour d’émetteurs halogènes à ondes courtes insérés dans des enveloppes en quartz. Elle délivre un rayonnement NIR à montée rapide qui pénètre le photoresist sans brûler l’empilement. L’uniformité au niveau wafer reste dans ±0,1°C sur toute la zone de cuisson, ce qui permet aux profils de pré-séchage (soft bake) et de durcissement (hard bake) de bien correspondre à la recette.
Elle est compatible salle blanche jusqu’à la classe 1–100, grâce à une assemblage contrôlé en particules et des matériaux sans émission gazeuse, maintenant ainsi la contribution particulaire de la lampe en dessous des spécifications du procédé. De plus, le système répète les points de consigne de façon fiable, jour après jour, ce qui évite la dérive des budgets de gravure et de développement.