Lampe chauffante pour l élimination de l humidité des wafer

Wed, 17 Jun 2026 12:03:01 +0800

Sur le plan de fabrication, l’humidité présente à la surface de la wafer peut provoquer des variations dans ses dimensions critiques après exposition. Une humidité non contrôlée entraîne inévitablement des problèmes d’adhésion du photorésiste, justement au moment où l’on cherche à maintenir un profil de chauffage optimal pendant les étapes de cuisson. La lampe de séchage de l’humidité sur la wafer élimine ce problème : elle fournit une chaleur rapide et efficace qui permet de stabiliser la température de la wafer avant la lithographie, tout en assurant une uniformité thermique constante tout au long du cycle de cuisson.

Enlèvement on Warm IR Spot Heating

Lampe chauffante pour l élimination de l humidité des wafer