<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>رطوبت on Warm IR Spot Heating</title>
		<link>http://warm-ir-heater-spot.com/fa/tags/%D8%B1%D8%B7%D9%88%D8%A8%D8%AA/</link>
		<description>Recent content in رطوبت on Warm IR Spot Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 12:03:02 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-spot.com/fa/tags/%D8%B1%D8%B7%D9%88%D8%A8%D8%AA/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>لامپ گرمکن برای حذف رطوبت از ویفرها</title>
				<link>http://warm-ir-heater-spot.com/fa/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 12:03:02 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-spot.com/fa/posts/wafer-moisture-removal-heater-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-spot.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;لامپ گرمکن برای حذف رطوبت از ویفرها&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در خط تولید، رطوبت موجود روی سطح ویفر می‌تواند باعث تغییر ابعاد کلیدی آن شود. رطوبت غیرقابل کنترل؟ این موضوع می‌تواند منجر به مشکلاتی در چسبندگی فوتورزیست به سطح ویفر شود، در حالی که سعی داریم فرآیند پخت ویفر را به درستی انجام دهیم. لامپ حذف رطوبت، گرمای لازم را به سرعت و به طور کامل به ویفر منتقل می‌کند؛ این امر باعث می‌شود ویفر قبل از فرآیند لیتوگرافی در وضعیت مناسبی قرار بگیرد و دمای ویفر در طول فرآیند پخت یکنواخت باقی بماند.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
