OLED Herstellungs Trocknungslampe

Tue, 09 Jun 2026 01:29:05 +0800

On der OLED-Lithographie-Linie sind Drift und Abweichungen nicht akzeptabel. Eine halbe Grad Celsius während des Photoresist-Backvorgangs reicht aus, um kritische Abmessungen zu verschieben und eine gesamte Maskenebene auszuschießen. Es wird eine Trocknungslampe benötigt, die das thermische Budget als echten Prozessparameter behandelt und nicht als nachträglichen Gedanken.

Was unter der Haube zählt
Die OLED-Trocknungslampe wurde um kurzwellige Halogenstrahler in Quarzgehäusen konzipiert. Sie liefert ein schnell ansteigendes NIR, das in den Photoresist eindringt, ohne den Schichtaufbau zu beschädigen. Die Wafer-gleichmäßigkeit bleibt im Backbereich innerhalb von ±0,1°C, sodass Soft-Bake- und Hard-Bake-Profile tatsächlich dem Rezept folgen.
Die Lampe ist bis zur Reinraumklasse 1–100 kompatibel, dank partikelkontrollierter Montage und Materialien ohne Ausgasung. Dadurch bleibt der Partikelbeitrag der Lampe selbst unterhalb der Prozessspezifikation. Das System wiederholt die Sollwerte zuverlässig, Tag für Tag, damit die Ätz- und Entwicklungsbudgets stabil bleiben.

OLED on Warm IR Spot Heating

OLED Herstellungs Trocknungslampe