Heizung zur Unterstützung des kryogenen Systems

Sun, 21 Jun 2026 03:00:12 +0800

Im Produktionsbereich spürt man dies, wenn sich die Temperaturen während des Trocknens der Wafer sowie bei der Verarbeitung des Photoresists ändern – dadurch sinkt die Qualität der Produkte. Sobald der Kryostat das voreingestellte Temperaturniveau erreicht hat, muss der Unterstützungsheizer die Oberfläche des Wafer stabilisieren. Jede Abweichung oder Unregelmäßigkeit führt zu Schwankungen in der Linienbreite sowie zu anderen Problemen.

Was wirklich wichtig ist: Unser Kryosystem mit Unterstützungsheizer sorgt dafür, dass die Temperatur im aktiven Bereich innerhalb von ±0,1°C konstant bleibt – mit einer Wiederholgenauigkeit von ±0,5°C. Das für NIR-Technologien optimierte Element gewährleistet eine saubere und schnelle Energieübertragung. Es eignet sich für Reinräume der Klasse 1–100 und sorgt dafür, dass keine Partikel entstehen. Der Heizer arbeitet kontinuierlich mit der vorgesehenen Leistung – ohne Hotspots – und seine Leistung bleibt über Tausende von Stunden hinweg stabil. Die Schnittstellen sind standardisiert, sodass der Heizer einfach in Kryochucks und Prozessmodule integriert werden kann. Er ist außerdem für einen 24/7-Betrieb geeignet.

Kryogenisch on Warm IR Spot Heating

Heizung zur Unterstützung des kryogenen Systems