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		<title>Feuchtigkeit on Warm IR Spot Heating</title>
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				<title>Heizlampe zur Entfeuchtung von Wafern</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-spot.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Heizlampe zur Entfeuchtung von Wafern&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Auf der Fertigungsfläche kann die Feuchtigkeit auf der Oberfläche des Wafers dazu führen, dass die wichtigen Abmessungen des Wafers nach der Belichtung verändert werden. Unausgeglichene Luftfeuchtigkeit bedeutet Probleme bei der Haftung des Photolacks – gerade in dem Moment, in dem man versucht, den Trocknungsprozess unter Kontrolle zu halten. Die Heizlampe zur Entfernung der Feuchtigkeit aus dem Wafer sorgt dafür, dass die Temperatur schnell und effektiv angehoben wird. Dadurch bleibt die Temperatur im gewünschten Bereich, während der Lithografieprozess stattfindet.&lt;/p&gt;</description>
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