Під час процедури випалювання фотополімеру йдеться про точне контролювання температури – необхідно дотримуватися діапазону ±0,1°C. Якщо температура виходить за ці межі, це призводить до зниження якості продукції та необхідності повторної обробки. Тож ми створили лампу для печей на основі кремнію карбіду, яка може працювати без перерв протягом багатьох змін, забезпечуючи стабільну температуру.
Ядром лампи є випромінювач короткохвильового інфрачервоного світла – кремній карбід у кварцовому корпусі, який забезпечує швидку та стабільну реакцію. Ми прагнемо до однорідності температури на всій поверхні пластини – ±0,1°C; повторюваність результатів між серіями виробів становить ±0,5°C. Режими роботи лампи можна налаштовувати відповідно до потреб – як для м’якого, так і для жорсткого випалювання. Контроль температури дозволяє точно контролювати процес випалювання.
Корпус лампи призначений для використання в чистих приміщеннях класу 1–100; він не створює жодних частинок, які могли б забруднити фотополімер. Лампи можуть працювати понад 5 000 годин без значного зниження продуктивності – вони розраховані на 24/7 роботу.
У літографічному приміщенні ця лампа може замінити традиційні галогенові та середньохвильові системи – не потрібно змінювати рецептуру процесу. Це забезпечує швидку стабілізацію температури, менше відхилень під час процесу випалювання та менше енергоспоживання на одну пластину. Лампа підходить для використання в стандартних печах, сумісна з міжнародними стандартами обладнання для виробництва напівпровідників. Вона забезпечує точний контроль температури, що необхідно для якісної обробки пластин.
Встановлення лампи полягає у правильному розташуванні її в печі та забезпеченні належного охолодження. Неправильне розташування відбивачів чи недостатнє охолодження можуть спричинити відхилення в температурному профілі. Перед включенням лампи необхідно перевірити геометрію приміщення та параметри живлення. Після цього лампа буде функціонувати як ідеальне джерело тепла – з точністю саме там, де це необхідно.