Berhentilah menggunakan metode memanaskan ruang vakum dengan cara biasa. Siapa saja yang pernah bekerja di pabrik semikonduktor pasti tahu betapa merepotkannya hal ini: kita perlu memanaskan wafer tersebut, tetapi kita tidak ingin ruang vakum tersebut berubah menjadi “oven”.
Lampu inframerah biasa pada dasarnya merupakan lampu pijar yang memiliki daya panas yang sangat tinggi; panasnya tersebar ke segala arah. Di dalam kondisi vakum, energi tersebut tidak punya tempat untuk pergi. Energi tersebut akan menabrak dinding-dinding bagian dalam peralatan tersebut. Akibatnya, peralatan tersebut akan menjadi terlalu panas, dan para operator harus berhati-hati agar tidak terbakar.
Ini merupakan situasi yang sangat merepotkan. Namun, ada cara yang lebih baik untuk mengatasinya.
Fokuskan panasnya, jangan biarkan panas tersebar ke mana-mana. Kita menggunakan teknologi inframerah yang dapat mengarahkan panas ke titik yang tepat. Dengan cara ini, panas yang dibutuhkan oleh wafer dapat disalurkan ke sana, sedangkan bagian peralatan lainnya tetap dingin. Anda bahkan bisa menyentuh peralatan tersebut tanpa harus khawatir akan terluka.
Masalah dengan kondisi vakum memang nyata. Fisika berubah ketika udara dikeluarkan dari ruangan tersebut. Kita kehilangan mekanisme pendinginan konvektif, sehingga lampu-lampu tersebut tidak bisa “bernafas”. Mereka hanya bisa mengandalkan radiasi dan alat reflektor untuk meluapkan panasnya.
Jika kita menggunakan lampu halogen berdaya tinggi tanpa alat penyerap panas atau reflektor yang memadai, maka lampu tersebut akan cepat rusak. Kita menggunakan kapsul kuarsa untuk menyerap panas tersebut, tetapi kita juga perlu memperhatikan suplai dayanya. Tabung-tabung tersebut cenderung meningkatkan arus listrik saat awal pemakaian.
Waktu proses yang lebih singkat, stres yang lebih sedikit. Mengurangi panas yang terbuang bukan hanya tentang keselamatan, tetapi juga tentang kecepatan. Ketika dinding ruang vakum tidak menyerap panas, maka dinding tersebut tidak lagi berfungsi sebagai radiator raksasa. Artinya, saat tiba saatnya untuk menurunkan suhu, kita tidak perlu menunggu waktu yang lama agar logam tersebut dingin. Waktu proses pun berkurang, sehingga kapasitas produksi meningkat.
Sebagai catatan tambahan, gunakan kabel berdaya tinggi dan pastikan posisi reflektor tepat. Jika posisi reflektor salah sebanyak dua derajat saja, maka titik panas akan bergeser dari wafer ke dinding. Dan kita akan kembali ke titik awal.